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光痕

2025.9.20 -10.28
Light Shadow
参展艺术家：
Lin Wenjie 林文捷, Liu Yang 刘洋

光痕

日期：2025.9.20 -10.28

展览以“光”为核心线索，展开对时间、记忆与显现的双重探讨：其一，物理之光在空气、尘埃与肌理间留下的划痕；其二，现象学意义上的“被给予性”（givenness）——作品自身在显现中抵达观看，在心灵中沉降为记忆的纹路。正如让–吕克·马里翁所言：艺术之为艺术，不在于再现，而在于“在自我给予的显现中成为作品”。

在两位艺术家的实践中，“光痕”既生成于绘画语言，也是观看经验的核心。 林文捷以丙烯与拼贴捕捉日常片段中的微光与氛围，使平凡风景化作抒情空间；刘洋则通过木板丙烯绘画凝视历史的尘埃与沉默，让被遗忘的瞬间在光中重新显影。两位艺术家的绘画在此相遇，构成一场富有张力的对话：他们以不同的路径，共同回应着“绘画如何让不可见者显形”这一问题。当光抵达观看者，它既落在画面，也落入意识，化作可被复现的心痕。由此，《光痕》成为自然与文化、现实与记忆、个人与历史之间的一道交织的轨迹。